纪卬6月4-6日，广明我国（深圳）世界 。源行半导体。将露界半博览会将在深圳世界会议 。脸深中心。圳世展举办 。导体广明源（展位号 ：1 。广明4G 。源行22）将携172nm等紫外线系列光源 、将露界半设备与模组露脸 ，脸深要点展现172nm准分子光在晶圆光清洗 、圳世展半导体基材外表活化及超纯水TOC降解等工艺环节的导体使用解决方案 。
诚邀职业同伴莅临沟通 ，广明共探172nm等紫外光在 。源行半导体制作。将露界半范畴的立异使用 ，携手敞开协作新篇章 。
观展攻略。
2025我国（深圳）世界半导体博览会 。
时刻 ：2025年6月4-6日 。
地址：深圳世界会议中心14号馆 。
展位号 ：14G22 。
172nm准分子光立异使用。
助力半导体制作业高质效晋级。
1晶圆/掩膜版光清洗 。
功用 ：高效去除各类微观有机污染物 ，完成超净外表 。
优势 ：无化学残留 、低温无损伤 、原子级洁净度 。
使用 ：晶圆 、光罩 、掩膜版 、显现屏、PET 、 。PCB。等的外表有机污染物清洁 、封装前预处理 、光刻胶去除 。
使用作用 。
172nm清洁纳米压印模具 ，进步洁净度。
2晶圆键合改性 。
功用 ：可快速精准调理外表亲水性以及粘附功用 。
优势 ：无热效应、快速处理 、无化学残留。
使用：薄膜堆积前处理 、 。MEMS 。封装 、3D封装 、晶圆键合、倒装芯片键合 、引线键合等 。高精度 。芯片制作。 。
使用作用 。
照耀后 ，亲水性进步 ，接触角显着变小 。
3超纯水TOC降解 。
功用 ：高效降解超纯水中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级 。
优势 ：无化学增加 、在线降解 、高效安稳 。
使用：半导体晶圆制程 、显现面板出产的超纯水系统 。
技能原理 。
172nm紫外光可促进水体生成自由基 ，
把有机物快速氧化为CO₂和H₂O 。
诚邀莅临，讨论职业新机遇 。
深耕光科技使用研制与制作20多年 ，广明源专心于172nm准分子光源在半导体制作工艺中的立异使用，继续为职业供给高效 、牢靠 、高性价比的技能解决方案。
依托专业的流水线设备设计与定制才能 ，公司可以依据客户需求 ，供给半导体等高端制作制程所需的中心光源部件、模组及设备 ，掩盖从试验验证到大规模量产的全流程解决方案 ，满意不同阶段的出产需求 。一起 ，依托自主172nm光源技能 ，助力工业链补链强链 ，提高国产化代替才能 ，保证供应链安全与工业系统安稳 。
本次展会 ，咱们等待与您面对面沟通 ，讨论172nm准分子光在半导体制作范畴不同工艺环节中的技能细节与使用经历 ，共享职业洞见，助力半导体制作技能继续优化晋级 。
